| 图片 |
标 题 |
更新时间 |
 |
砝码质量比较仪
砝码质量比较仪广泛应用于工业计量及铸铁砝码之检定的砝码质量比较仪，多用于定量值测量，称量速度快，精度高、稳定可靠、操作简单。主要采用机电结合的原理制作而成，它是一种与数字显示、标准砝码配套，用于室内的
|
2024-09-27 |
 |
深硅刻蚀
进口深硅刻蚀介绍：低损伤刻蚀：由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。高速刻蚀：对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀，光滑的侧壁可以通过室
|
2024-09-27 |
 |
刻蚀系统
刻蚀系统介绍高产量等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合，用于到200mm晶片的高产量工艺。研发三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备，以满
|
2024-09-27 |
 |
双束电镜
双束电镜借助这款扫描电子显微镜的超快速度,开启您对新维度的探索。现如今,在MultiSEM出色的图像采集速度推动下,您终于能够以纳米级的图像分辨率对大型样品进行高通量快速成像。MultiSEM专为全天候连续可靠的运行而
|
2024-09-27 |
 |
英国光栅刻蚀
英国光栅刻蚀介绍低损伤刻蚀由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。高速刻蚀对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀，光滑的侧壁可以通过室温下气
|
2024-09-27 |
 |
进口深硅刻蚀
进口深硅刻蚀介绍：低损伤刻蚀：由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。高速刻蚀：对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀，光滑的侧壁可以通过室
|
2024-09-27 |
 |
1.5KW水下潜水搅拌机
1.5KW水下潜水搅拌机简介：潜水搅拌机又称潜水推进器，适用于污水处理厂的工艺流程中推进搅拌含有悬浮物的污水、稀泥浆、工业过程液体等，创建水流，加强搅拌功能，防止污泥沉淀，是市政和工业污水处理工艺流程上的
|
2024-09-27 |
 |
深水自吸式潜水射流曝气机
QSB型射流式潜水曝气机原理：QSB型射流式潜水曝气机为直联式结构。旋转的叶轮在水中产生一个离心力，通过射流力在叶轮周围形成一个负压区，空气通过进气管被吸入，被吸入的空气和水在混合盘内混合，随后这种良好的均
|
2024-09-27 |
产品分类